D램 개발 (1) 썸네일형 리스트형 한국-네덜란드 메모리 혁신: 삼성전자와 ASML의 EUV 동맹 한국-네덜란드 반도체 동맹의 시작 한국의 삼성전자와 네덜란드의 ASML이 세계 반도체 장비 시장에서 혁신을 일으키기 위한 동맹을 체결하며, 메모리 혁신에 대한 새로운 장을 열고 있다. 이번 협약은 양사가 함께 한국에 극자외선(EUV) 반도체 장비 연구·개발(R&D) 시설을 세우고, 특히 삼성전자는 ASML과 함께 첨단 D램을 생산하는 데 필요한 전용 장비를 개발하는 데 중점을 두고 있습니다. ASML의 EUV 노광장비와 미래 반도체 생산 ASML의 EUV 노광장비는 반도체 생산의 핵심으로, 초미세 반도체 회로를 형성하는 과정에서 사용됩니다. ASML은 극자외선을 사용해 7나노미터 이하의 초미세 반도체 회로를 그릴 수 있는 어려운 기술을 선보이고 있습니다. 삼성전자는 이와 함께 ASML과 함께 하는 협력을.. 이전 1 다음
